單輥多腔體磁控卷繞真空鍍膜機

產品詳情

設備簡述：TS-JRC系列單輥多腔卷繞鍍膜機。此機型為標準型的多層膜卷繞鍍膜機，是一款適用性強、性價比高和技術成熟度高的連續鍍膜設備。多達6個陰極靶位，12支靶的安裝位置可以實現更復雜的鍍膜工藝。

設備應用：適用于在柔性基材如：PET/PEN/PI/PC/PE等有機薄膜或紙、布、海綿、金屬卷材、超薄玻璃等柔性材料表面采用磁控濺射工藝沉積Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO、C等導電膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者SiO₂、Nb₂O₅、Al₂O₃等介質膜的單層或多層功能性或裝飾性膜層。鍍膜的產品可以應用在ITO透明導電膜、汽車/建筑窗膜、AR膜、彩色膜、高反射膜、透明高阻隔膜、電磁屏蔽膜和薄膜太陽能電池電極等等領域。在汽車、觸摸屏、平板顯示、薄膜太陽能電池、鋰電池、柔性線路板、建筑節能等產業中有著廣泛的用途。

設備特點：設備收卷、放卷、鍍膜分別在不同的真空室內。裝、卸料時鍍膜室可保持真空狀態，大大提高了生產效率和更好保證了鍍膜重復性和穩定性。設備采用磁控濺射鍍膜方式，可配置旋轉或者平面濺射陰極，匹配直流或者用于反應濺射的中頻磁控濺射電源。腔室間隔氣良好，適合多層膜的鍍制工藝。這款機型具有產能大、穩定性強、重復性優、自動化程度高等特點。可根據工藝要求加配：在線光學檢測或電阻檢測系統、閉環鍍膜監控系統等裝置，以滿足更高要求的鍍膜工藝。